Modélisation et simulation du chauffage du silicium par laser

Abstract

Une tranche de silicium est chauffé par un laser qui se déplace dans le sens radial et dans le temps. En outre, la plaquette est mise en rotation sur elle-même dans sa phase. Le flux provenant du laser de chaleur incidente est modélisée comme une source de chaleur spatialement distribuée sur la surface. La réponse thermique en régime transitoire de la plaquette est représentée. Le pic, la moyenne, le minimum et les variations de la température pendant le procédé de chauffage sont calculés, de même que les variations de la température à travers la plaquette. Les résultats de calcul concordent bien avec ceux obtenus à partir des données expérimentales de cette étude.